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J-GLOBAL ID：200903022718949563

X線回折分析装置

Inventor： 新井 智也 ,  庄司 孝
Applicant, Patent owner： 理学電機工業株式会社
Agent (1)： 杉本 修司 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993037569
Publication number (International publication number)：1994082398
Application date： Feb. 01, 1993
Publication date： Mar. 22, 1994
Summary：

【要約】【目的】 回折X線分析において、X線を分光する際の強度の低下を防止して、回折X線の強度を強くして、分析精度の向上を図る。【構成】 X線源PからのX線を人工多層膜格子1により単色化させるとともに、試料2にほぼ平行に入射させる。人工多層膜格子1は、X線源Pから入射角θで入射したX線B1を反射面1aにおいて、回折面θで回折して単色化する。この人工多層膜格子1における格子面間隔の周期dは、反射面1aの表面に沿って連続的に大きくなるように設定されている。上記周期dは、X線源Pとの関係では、X線源Pから矢印10のように遠ざかるに従い大きく設定されている。

Claim (excerpt)：

格子面間隔の周期が反射面の表面に沿ってX線源から遠ざかるに従い連続的に大きくなるように設定されて、上記X線源からのX線を回折させて単色化するとともに、発散した状態のままで、かつ、発散角を小さくして第1の回折X線を試料に入射させる人工多層膜格子と、上記試料で回折された第2の回折X線が入射するX線検出器と、上記試料およびX線検出器を1:2の角速比で回転させるゴニオメータとを備えたX線回折分析装置。