イオン源、イオンビーム加工・観察装置、及び試料断面観察方法

Inventor： , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：ポレール特許業務法人
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2007113358
Publication number (International publication number)：2008270039
Application date： Apr. 23, 2007
Publication date： Nov. 06, 2008
Summary：

【課題】電子部品の断面を観察するための技術において、同一のイオン源から引き出したイオンビームを用いて、試料を加工し、試料の被加工部分の観察を可能にするイオンビーム加工・観察技術を提供する。【解決手段】試料を加工するガスイオンビーム種と試料を観察するときのガスイオンビーム種を切り替えることが可能である装置とする。試料加工時のガスイオンビーム種と試料観察時のガスイオンビーム種との切り替えを実現するためのイオン源として、ガスボンベ53、54、ガス配管、ガス量調整バルブ59、60およびストップバルブ57、58とを備えた導入系統を少なくとも2系統備え、各々のガス系統において各々のガス量調整バルブにより真空容器内のガス圧力条件を各々設定でき、各々のガス系統のストップバルブの操作により真空容器内に導入するガスを切り替えることが可能であるイオン源とする。【選択図】図2

Claim (excerpt)：

真空容器と、該真空容器内にガスを導入するガス供給機構とを備え、真空容器内でガスイオンを生成するイオン源において、前記ガス供給機構が、ガスボンベと、ガス量調整バルブと、ストップバルブとを少なくとも備えたガス導入系統を、少なくとも2系統備え、各々の前記ガス導入系統において各々の前記ガス量調整バルブにより前記真空容器内のガス圧力条件を各々設定でき、各々の前記ガス導入系統の前記ストップバルブの操作により前記真空容器内に導入するガス種を切り替えることを可能にしたことを特徴とするイオン源。

IPC (6)：

H01J 27/02 , H01L 21/302 , H01L 21/66 , H01J 37/30 , H01J 37/317 , H01J 37/08

FI (6)：

H01J27/02 , H01L21/302 201B , H01L21/66 N , H01J37/30 A , H01J37/317 D , H01J37/08

F-Term (19)：

4M106AA01 , 4M106BA02 , 4M106BA03 , 4M106CA51 , 4M106DB05 , 4M106DH55 , 5C030DE05 , 5C030DE09 , 5C030DG05 , 5C030DG07 , 5C034AA09 , 5C034AB01 , 5C034DD01 , 5C034DD09 , 5F004BA11 , 5F004BC03 , 5F004CA01 , 5F004CB04 , 5F004EA39

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (3)

微小試料加工観察方法及び装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-344226 Applicant：株式会社日立製作所
試料作製方法及び装置
Gazette classification：再公表公報 Application number：JP1998003250 Applicant：株式会社日立製作所
特開平H2-062039号公報

Cited by examiner (6)

電界電離型イオン源
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-102435 Applicant：株式会社日立製作所
イオンビーム処理方法および装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-172314 Applicant：株式会社日立製作所
特開平2-062039

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