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J-GLOBAL ID：200903022786878461

排一酸化二窒素ガスの処理方法

Inventor： 澤井 茂樹 ,  菅 英明 ,  永守 幸人
Applicant, Patent owner： 旭化成工業株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991158119
Publication number (International publication number)：1993004027
Application date： Jun. 28, 1991
Publication date： Jan. 14, 1993
Summary：

【要約】 (修正有)【目的】 アジピン酸の製造工程で副生するN2Oを含む排ガスのN2Oガスを効率的に処理する方法【構成】 シクロヘキサノール又はシクロヘキサノン又はそれらの混合物を硝酸酸化してアジピン酸を製造する工程で、副生する一酸化二窒素を含む排ガスを酸化第二銅触媒の存在下で連続的に窒素と酸素に分解し、分解の際に発生する熱で水蒸気を発生させ、予熱器を加熱する。【効果】 排ガス中のN2Oを長期連続的に安定して窒素と酸素に分解し、分解の際に発生する熱を有効に回収することができる。

Claim (excerpt)：

シクロヘキサノール又はシクロヘキサノン又はそれらの混合物を硝酸酸化してアジピン酸を製造する工程で、副生する一酸化二窒素を含む排ガスを酸化第二銅触媒の存在下で連続的に窒素と酸素に分解することを特徴とする排一酸化二窒素ガスの処理方法。

IPC (6)：

B01D 53/36 102 ,  B01D 53/36 101 ,  B01J 23/72 ,  C07C 51/27 ,  C07C 51/42 ,  C07C 55/14

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (6)

• 特開昭55-054960
  
• 特開昭55-129134
  
• 特開昭63-007826
  
• 特開昭51-117169
  
• 特開昭59-109712
  
• 特開昭48-068469