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J-GLOBAL ID：200903022791170701

洗浄装置

Inventor： 松村 公治 ,  瀬戸 宏之 ,  辛川 憲二 ,  前田 哲男
Applicant, Patent owner： 東京エレクトロン株式会社 ,  東京エレクトロン九州株式会社
Agent (1)： 浅井 章弘 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993141338
Publication number (International publication number)：1994333904
Application date： May. 20, 1993
Publication date： Dec. 02, 1994
Summary：

【要約】【目的】 洗浄液に乱流を生ぜしめて均一なライトエッチング等を行うことができる洗浄装置を提供する。【構成】 洗浄槽42内に被処理体Wを収容して、この中に洗浄液を導入して溢流させつつ被処理体を洗浄する洗浄装置において、この洗浄槽の側壁62にバッフル部材64を設ける。これにより底部52より導入した洗浄液を乱流状態とし、洗浄液濃度を均一にしてライトエッチング等を面内均一に施す。

Claim (excerpt)：

洗浄槽内に被処理体を収容し、前記洗浄槽の底部より洗浄液を導入して溢流させつつ前記被処理体を洗浄する洗浄装置において、前記洗浄槽の側壁に、前記導入された洗浄液を乱流状態にするためのバッフル部材を形成したことを特徴とする洗浄装置。

IPC (2)：

H01L 21/304 341 ,  B08B 3/10