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J-GLOBAL ID:200903022814338516

抗日光化粧品組成物およびその使用方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 志賀 正武 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1995133071
Publication number (International publication number):1995330564
Application date: May. 31, 1995
Publication date: Dec. 19, 1995
Summary:
【要約】【目的】 紫外線照射から皮膚もしくは髪を保護する化粧品組成物およびその使用方法を提供する。【構成】 化粧品として許容される担体中に、下記(i)、(ii)を必須の成分として含有する。(i) UV-B領域において活性なスクリーン剤として、溶解した形態での4-メチルベンジリデンショウノウ。(ii) 単独で上記UV-Bスクリーン剤を全て溶解するのに十分な量の2-エチルヘキシル=α-シアノ-β,β-ジフェニルアクリラート。
Claim (excerpt):
化粧品として許容される担体中に、(i)UV-B領域において活性なスクリーン剤として、溶解した形態での4-メチルベンジリデンショウノウ(化合物A)と、(ii)単独で上記UV-Bスクリーン剤を全て溶解するのに十分な量の2-エチルヘキシル=α-シアノ-β,β-ジフェニルアクリラート(化合物B)とを含有することを特徴とする、皮膚および/または髪の光保護等のための、局所使用用化粧品組成物。
IPC (6):
A61K 7/42 ,  A61K 7/00 ,  A61K 7/06 ,  A61K 7/075 ,  A61K 7/11 ,  C09K 3/00 104
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (3)
  • 特開昭60-237013
  • 特開昭62-265215
  • 特表平5-504572

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