Pat

J-GLOBAL ID：200903022830476147

調節されたアミン基密度と空間を提供する分子層を表面に含む基質及びその製造方法

Inventor： パク, ジュン-ウォン ,  シム, ジォ-ヨング ,  ムン, ジュン-ホ ,  ホン, ボン-ジン
Applicant, Patent owner： ポハン アイアン アンド スチール カンパニー リミテッド ,  ポハン ユニヴァーシティ オブ サイエンス アンド テクノロジー
Agent (2)： 荒船 博司 ,  荒船 良男
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2002525092
Publication number (International publication number)：2004508349
Application date： Sep. 05, 2001
Publication date： Mar. 18, 2004
Summary：

本発明はバイオチップ等に有益な基板に関し、アミンの面密度が低い分子層を備えていて、カルボキシ酸を有するN-CBZ-[1]amine-[9]acidとして表される化学式(1)の化合物を提供し、基板に備わる表面が有する分子層を作る反応は基板のアミノシリル化表面のアミン基と化学式(1)で表され錐形になっている化合物とで行われ、その製造方法も提供する。

Claim (excerpt)：

下記の化学式(1)で表示される化合物であって、

IPC (3)：

C07C271/48 ,  C07C269/04 ,  C07C269/06

FI (3)：

C07C271/48 ,  C07C269/04 ,  C07C269/06

F-Term (7)：

4H006AA01 ,  4H006AA02 ,  4H006AC53 ,  4H006AC56 ,  4H006RA24 ,  4H006RB04 ,  4H006RB34