Pat
J-GLOBAL ID:200903022853428964
ポリウレタンの製造法
Inventor:
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
細田 芳徳
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1999359820
Publication number (International publication number):2001172351
Application date: Dec. 17, 1999
Publication date: Jun. 26, 2001
Summary:
【要約】【課題】低臭気のポリウレタン製造用触媒、並びに該ポリウレタン製造用触媒を用いて耐ビニルステイン性、耐フォギング性及び耐熱性に優れたポリウレタンを製造する方法を提供すること。【解決手段】式(I): R1 R2 N-(CH2 )n -OH (I)(式中、R1 及びR2 はそれぞれ独立して炭素数1〜4のアルキル基、nは9〜12の整数を示す)で表されるジアルキルアミノアルキルアルコールからなるポリウレタン製造用触媒、並びに前記ポリウレタン製造用触媒の存在下で、ポリオール成分とイソシアネート成分とを反応させるポリウレタンの製造法。
Claim (excerpt):
式(I): R1 R2 N-(CH2 )n -OH (I)(式中、R1 及びR2 はそれぞれ独立して炭素数1〜4のアルキル基、nは9〜12の整数を示す)で表されるジアルキルアミノアルキルアルコールからなるポリウレタン製造用触媒。
IPC (3):
C08G 18/18
, C09K 3/10
, C08G101:00
FI (4):
C08G 18/18
, C09K 3/10 D
, C09K 3/10 Z
, C08G101:00
F-Term (63):
4H017AA04
, 4H017AA31
, 4H017AB04
, 4H017AC13
, 4J034DA01
, 4J034DB03
, 4J034DB07
, 4J034DF01
, 4J034DF14
, 4J034DF16
, 4J034DF20
, 4J034DF21
, 4J034DF22
, 4J034DG03
, 4J034DG04
, 4J034DG05
, 4J034DG06
, 4J034DG18
, 4J034DG23
, 4J034HA01
, 4J034HA06
, 4J034HA07
, 4J034HC03
, 4J034HC12
, 4J034HC13
, 4J034HC16
, 4J034HC17
, 4J034HC22
, 4J034HC46
, 4J034HC52
, 4J034HC61
, 4J034HC64
, 4J034HC67
, 4J034HC71
, 4J034HC73
, 4J034KA01
, 4J034KA04
, 4J034KB02
, 4J034KB04
, 4J034KC13
, 4J034KC17
, 4J034KC18
, 4J034KD02
, 4J034KD05
, 4J034KD07
, 4J034KD11
, 4J034KD12
, 4J034KD15
, 4J034KD17
, 4J034KE01
, 4J034KE02
, 4J034KE03
, 4J034NA01
, 4J034NA02
, 4J034NA03
, 4J034NA05
, 4J034NA08
, 4J034QB19
, 4J034RA08
, 4J034RA10
, 4J034RA12
, 4J034RA14
, 4J034RA15
Patent cited by the Patent:
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