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J-GLOBAL ID：200903022872428363

反射防止膜

Inventor： 大石 知司 ,  高橋 研 ,  中澤 哲夫 ,  田中 滋 ,  三吉 忠彦
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 小川 勝男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995232304
Publication number (International publication number)：1996108066
Application date： Jul. 11, 1990
Publication date： Apr. 30, 1996
Summary：

【要約】【目的】残留有機物の少ない化学量論比のそろった高分子金属ポリマ薄膜が低温で熱処理しない方法で得られる反射防止膜を提供する。【構成】分解開始温度が300°C以下である基板上に形成された無機ポリマ薄膜の炭素量が0.01 乃至4原子%であって、C-H結合を含み、実質的に金属酸化物からなる非結晶の無機ポリマであることを特徴とする反射防止膜。【効果】残留有機物の少ない化学量論比のそろった高分子金属ポリマ薄膜からなる反射防止膜が低温で熱処理しない方法で得られる。

Claim (excerpt)：

分解開始温度が300°C以下である基板上に形成された無機ポリマ薄膜の炭素量が0.01 乃至4原子%であって、少量のC-H結合を含み、実質的に金属酸化物からなる非晶質の無機ポリマを有することを特徴とする反射防止膜。

IPC (12)：

B01J 19/12 ,  C01B 13/14 ,  C01B 13/32 ,  C01B 33/12 ,  C01G 15/00 ,  C01G 19/02 ,  C01G 23/04 ,  C01G 35/00 ,  H01G 4/33 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/31 ,  H01L 21/314

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (9)

• 特開平3-188938
  
• 特開昭62-231201
  
• 特開昭62-017701
  
• 特開昭61-091838
  
• 特開昭60-242401
  
• 特開昭60-088901
  
• 特開昭60-068319
  
• 特開昭60-017078
  
• 特開昭59-050401