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J-GLOBAL ID：200903022936073220

液体処理方法および液体処理システム

Inventor： 森 敏一 ,  津田 光男
Applicant, Patent owner： 株式会社プラウド
Agent (1)： 中尾 俊輔 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999076976
Publication number (International publication number)：2000263056
Application date： Mar. 19, 1999
Publication date： Sep. 26, 2000
Summary：

【要約】【課題】 液体処理設備を小規模化することができてイニシャルコストおよびランニングコストを低廉化できるとともに、簡単な操作により液体中の水溶性有機物や微生物等を確実に除去でき、しかも脱臭、脱色、殺菌、液体の細分化処理および酸化還元処理を行うことのできる液体処理方法および液体処理システムを提供すること。【解決手段】 水溶性有機物や微生物等のコロイド粒子を含む液体を磁界中においてミキシング処理し、この処理後の液体を電圧が印加されたメッシュ状部材に通過させ、さらに前記液体に交流高電圧を印加するとともに高周域の電磁波を発信するようにした。

Claim (excerpt)：

水溶性有機物や微生物等のコロイド粒子を含む液体を磁界中においてミキシング処理し、この処理後の液体を電圧が印加されたメッシュ状部材に通過させ、さらに前記液体に交流高電圧を印加するとともに高周域の電磁波を発信するようにしたことを特徴とする液体処理方法。

IPC (5)：

C02F 1/463 ,  C02F 1/465 ,  C02F 1/36 ,  C02F 1/461 ,  C02F 1/48

FI (4)：

C02F 1/46 102 ,  C02F 1/36 ,  C02F 1/48 A ,  C02F 1/46 101 C

F-Term (38)：

4D037AA09 ,  4D037AA12 ,  4D037AB02 ,  4D037AB04 ,  4D037BA26 ,  4D037CA01 ,  4D037CA02 ,  4D037CA04 ,  4D037CA05 ,  4D037CA06 ,  4D037CA08 ,  4D037CA09 ,  4D037CA12 ,  4D061DA08 ,  4D061DA09 ,  4D061DB01 ,  4D061DB16 ,  4D061DC03 ,  4D061DC04 ,  4D061DC08 ,  4D061DC14 ,  4D061DC20 ,  4D061EA07 ,  4D061EA19 ,  4D061EB09 ,  4D061EB19 ,  4D061EB29 ,  4D061EB30 ,  4D061EB31 ,  4D061EB39 ,  4D061EC05 ,  4D061EC11 ,  4D061ED15 ,  4D061FA13 ,  4D061FA16 ,  4D061FA17 ,  4D061GC12 ,  4D061GC14