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J-GLOBAL ID:200903022963507380
半導体集積回路用ヒューズ
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
長谷川 和音
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1996234166
Publication number (International publication number):1998079434
Application date: Sep. 04, 1996
Publication date: Mar. 24, 1998
Summary:
【要約】【課題】基板にダメージを与えることなく1回のレーザ照射で確実に溶断される半導体集積回路用ヒューズ構造を提供する。【解決手段】基板と、基板上に設けられるヒューズメタル7及びその近傍に設けられるダミーヒューズメタル8により構成される。このヒューズ構造のヒューズメタル7とダミーメタル8は絶縁膜5で覆われ、ヒューズメタル7とダミーメタル8の中心付近で、絶縁膜5の側面は接するように構成される。レーザ光照射時、ヒューズメタル7とダミーヒューズメタル8間中心から互いに外向きの力が発生し、両ヒューズメタル7、8は互いに反対方向へ飛散する。
Claim (excerpt):
基板と、前記基板上に設けられるヒューズメタルパターン及びその近傍に設けられるダミーメタルパターン、を具備することを特徴とする半導体集積回路用ヒューズ構造。
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