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J-GLOBAL ID：200903022985820618

薬液処理方法

Inventor： 伊藤 信一
Applicant, Patent owner： 株式会社東芝
Agent (1)： 三好 秀和 (外7名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000039683
Publication number (International publication number)：2001228625
Application date： Feb. 17, 2000
Publication date： Aug. 24, 2001
Summary：

【要約】【課題】 薬液と直接接触することなく、被処理基板上で薬液を移動させることで、薬液の加工の均一性を向上させる薬液処理方法を提供する。【解決手段】 被加工膜が形成された被処理基板上に、その被加工膜を加工する薬液を供給し、被処理基板上に薬液膜を形成する工程(ステップS102)と、薬液膜形成工程(ステップS102)の後、薬液膜の表面と接触するように気流を形成することで、被処理基板上に薬液膜を保持しつつ、薬液膜の表面に薬液の流れを形成する工程(ステップS104)とを少なくとも含む薬液処理方法である。

Claim (excerpt)：

被加工膜が形成された被処理基板上に、該被加工膜を加工する薬液を供給し、前記被処理基板上に薬液膜を形成する工程と、該薬液膜形成工程の後、前記薬液膜の表面と接触するように気流を形成することで、前記被処理基板上に前記薬液膜を保持しつつ、前記薬液膜の表面に薬液の流れを形成する工程とを少なくとも含むことを特徴とする薬液処理方法。

IPC (3)：

G03F 7/30 502 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/306

FI (3)：

G03F 7/30 502 ,  H01L 21/30 569 C ,  H01L 21/306 J

F-Term (19)：

2H096AA25 ,  2H096GA02 ,  2H096GA21 ,  2H096HA19 ,  2H096HA20 ,  2H096JA04 ,  5F043BB27 ,  5F043CC09 ,  5F043CC11 ,  5F043CC12 ,  5F043DD12 ,  5F043DD30 ,  5F043EE07 ,  5F043EE08 ,  5F043EE35 ,  5F043EE36 ,  5F043EE40 ,  5F043GG10 ,  5F046LA14