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J-GLOBAL ID：200903023004493902

自己組織化単分子膜の製造方法

Inventor： 藤平 正道 ,  秋葉 宇一 ,  藤井 慎太郎
Applicant, Patent owner： 財団法人理工学振興会
Agent (2)： 関根 武 ,  渡部 温
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003113775
Publication number (International publication number)：2004315461
Application date： Apr. 18, 2003
Publication date： Nov. 11, 2004
Summary：

【課題】分子レベルの精密構造制御を可能とする自己組織化単分子膜を製造する方法を提供する。【解決手段】金属基板上に物質の自己組織化単分子膜を形成する方法は、アダマンタン構造を有する化合物(例えばビス(トリシクロ[3.3.1.1.]デシルメチルジスルフィド)を含む溶液に、金属基板を浸漬して、該アダマンタン構造を有する化合物からなる自己組織化単分子膜を該金属基板表面に形成することを特徴とする。【選択図】 なし

Claim (excerpt)：

金属基板上に物質の自己組織化単分子膜を形成する方法であって、 アダマンタン構造を有する化合物を含む溶液に、金属基板を浸漬して、該アダマンタン構造を有する化合物からなる自己組織化単分子膜を該金属基板表面に形成することを特徴とする方法。

IPC (3)：

C07C319/24 ,  C07C321/22 ,  C23C26/00

FI (3)：

C07C319/24 ,  C07C321/22 ,  C23C26/00 A

F-Term (14)：

4H006AA01 ,  4H006AA02 ,  4H006AB99 ,  4H006AC63 ,  4H006BB11 ,  4H006BB14 ,  4H006BB20 ,  4H006BB25 ,  4H006TA04 ,  4K044AA01 ,  4K044AB02 ,  4K044BA21 ,  4K044BB01 ,  4K044BC14