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J-GLOBAL ID：200903023097893034

感光性樹脂組成物、感光性積層体及びフレキシブルプリント板の製造法

Inventor： 太田 文彦 ,  小畑 立子 ,  土川 信次 ,  天野倉 仁 ,  鈴木 健司 ,  西沢 広
Applicant, Patent owner： 日立化成工業株式会社
Agent (1)： 若林 邦彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996129841
Publication number (International publication number)：1997311446
Application date： May. 24, 1996
Publication date： Dec. 02, 1997
Summary：

【要約】【課題】 感度及び光硬化性に優れ、フォトリソグラフィーによりパターンを精度良く形成でき、耐折性、はんだ耐熱性、難燃性、フィルム上への塗布作業性に優れた感光性樹脂組成物及びこの組成物を用いた積層体を提供すること。【解決手段】 (A)ポリテトラメチレングリコール変性ジカルボン酸を必須成分として含んでなる多価カルボン酸成分とジイソシアネートとの反応生成物とエポキシ樹脂とを反応させて得られるエポキシ基含有ポリアミド系樹脂に対してモノカルボン酸を反応させて得られるエポキシ基封鎖型ポリアミド樹脂、(B)末端にエチレン性不飽和基を少なくとも1個有する光重合性不飽和化合物及び(C)活性光の照射により遊離ラジカルを生成する光重合開始剤を含有してなることを特徴とする感光性樹脂組成物及びこの組成物の層を有する感光性積層体。

Claim (excerpt)：

(A)ポリテトラメチレングリコール変性ジカルボン酸を必須成分として含んでなる多価カルボン酸成分(a)とジイソシアネート(b)とを当量比〔(a)のカルボキシル基/(b)のイソシアネート基〕が1を超える条件で反応させて得られるカルボン酸含有ポリアミド系樹脂(c)に対して、エポキシ樹脂(d)を当量比〔(d)のエポキシ基/(c)のカルボキシル基〕が1以上となる条件で反応させて得られるエポキシ基含有ポリアミド系樹脂(e)に対してモノカルボン酸(f)を当量比〔(f)のカルボキシル基/(e)のエポキシ基〕が1以上となる条件で反応させて得られるエポキシ基封鎖型ポリアミド樹脂、(B)末端にエチレン性不飽和基を少なくとも1個有する光重合性不飽和化合物及び(C)活性光の照射により遊離ラジカルを生成する光重合開始剤を含有してなることを特徴とする感光性樹脂組成物。

IPC (13)：

G03F 7/037 501 ,  B32B 27/34 ,  C08F 2/48 MDH ,  C08F283/04 MQT ,  C08F299/02 MRP ,  C08K 5/00 ,  C08L 63/00 NKE ,  C08L 77/00 KKU ,  C09D 4/00 PDU ,  C09D 4/02 PDR ,  G03F 7/032 501 ,  H05K 3/28 ,  C08F290/06

FI (13)：

G03F 7/037 501 ,  B32B 27/34 ,  C08F 2/48 MDH ,  C08F283/04 MQT ,  C08F299/02 MRP ,  C08K 5/00 ,  C08L 63/00 NKE ,  C08L 77/00 KKU ,  C09D 4/00 PDU ,  C09D 4/02 PDR ,  G03F 7/032 501 ,  H05K 3/28 D ,  C08F290/06