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J-GLOBAL ID:200903023123996890

ポリヌクレオチドアレイの製作法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 古谷 馨 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000126767
Publication number (International publication number):2001021558
Application date: Apr. 27, 2000
Publication date: Jan. 26, 2001
Summary:
【要約】【課題】 基板上にポリヌクレオチドアレイを製作する方法を提供する。【解決手段】 (a)ポリヌクレオチドデポジションシステムを作動させて、前記基板上にポリヌクレオチド含有する流体小滴のアレイをデポジットし、乾燥すると、ポリヌクレオチドを含有するスポットのターゲット・パターンを提供するステップと、(b)前記システムによってデポジットした小滴が乾燥するのに十分な時間を経過させ、実際のパターンの乾燥スポットが生じるようにするステップと、(c)前記実際のパターンを観察するステップと、(d)前記実際のパターンと、ポリヌクレオチドを含有するスポットの前記ターゲット・パターンを比較するステップ、とを含む方法。
Claim (excerpt):
基板上にポリヌクレオチドアレイを製作する方法であって、(a)ポリヌクレオチドデポジションシステムを作動させて、前記基板上にポリヌクレオチドを含有する流体小滴のアレイをデポジットし、乾燥すると、ポリヌクレオチドを含有するスポットのターゲット・パターンを提供するステップと、(b)前記システムによってデポジットした小滴が乾燥するのに十分な時間を経過させ、実際のパターンの乾燥スポットが生じるようにするステップと、(c)前記実際のパターンを観察するステップと、(d)前記実際のパターンと、ポリヌクレオチドを含有するスポットの前記ターゲット・パターンを比較するステップ、とを含む方法。
IPC (6):
G01N 33/53 ,  C12M 1/00 ,  C12N 15/09 ,  G01N 1/10 ,  G01N 31/22 121 ,  G01N 33/566
FI (6):
G01N 33/53 M ,  C12M 1/00 A ,  G01N 1/10 N ,  G01N 31/22 121 P ,  G01N 33/566 ,  C12N 15/00 A
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (2)

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