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J-GLOBAL ID：200903023142047220
リソグラフィシステム、露光装置、及びこれらを利用した半導体デバイス製造方泡並びにマシンコントローラ
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999200173
Publication number (International publication number)：2000100720
Application date： Apr. 02, 1991
Publication date： Apr. 07, 2000
Summary：
【要約】【構成】 リソグラフィ工程の複数台の露光装置を、生産管理のために統括的に制御するホストコンピュータとは別に、各露光装置の固有の装置定数、動作パラメータ、ウェハの加工状態の情報等を収集し、ホストコンピュータによる制御と干渉することなく、各露光装置の稼動状態が安定に維持されるように制御する系を設ける。【効果】 複数の露光装置を使ったリソグラフィ工程の全体、あるいは露光装置の運用を効率的に支援することができる。
Claim (excerpt)：
リソグラフィ工程で使用される複数台の露光装置と、該複数台の露光装置の夫々で使用されるマスクの供給管理、前記複数台の露光装置の夫々で露光されるべき複数枚の基板の供給管理、及び前記複数台の露光装置の夫々に供給された前記マスクと基板とに応じた各露光装置の稼動条件設定を統括制御するプロセス管理装置とを備えたリソグラフィ・システムにおいて、前記複数台の露光装置の夫々に設定された前記稼動条件に応じて変化し得る各露光装置毎の固有の装置情報、もしくは各露光装置で処理された基板の加工状態を計測、又は評価した情報を、前記プロセス管理装置の制御とは無関係に独立に収集する情報収集装置と;該収集された各種情報に基づいて、前記プロセス管理装置によって設定された前記稼動条件が安定に維持されるように、前記各露光装置毎に設定された動作パラメータの一部を、前記プロセス管理装置の制御とは独立して修正、もしくは補正するシステム・オブザーバ装置とを設けたことを特徴とするリソグラフィ情報管理システム。
IPC (2)：
H01L 21/027
, G03F 7/20 521
H01L 21/30 502 G
, G03F 7/20 521
Cited by examiner (10)
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