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J-GLOBAL ID：200903023162295018

微細凹凸パターン成形用成形型

Inventor： 牛田 正男
Applicant, Patent owner： ホーヤ株式会社
Agent (1)： 阿仁屋 節雄 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991346345
Publication number (International publication number)：1993177705
Application date： Dec. 27, 1991
Publication date： Jul. 20, 1993
Summary：

【要約】【目的】 この発明は、頻繁に化学洗浄をしても微細凹凸パターンに欠落が生ずることのない微細凹凸パターン成形用成形型を提供することを目的とする。【構成】 本発明にかかる微細凹凸パターン成形用成形型10は、微細凹凸パターン2を窒素とクロムとを含む材料で構成し、かつこの材料中の窒素含有量を20原子%以上にしたことにより、化学洗浄を頻繁に行ってもパターンの欠落を防止できるという効果を得ているものである。

Claim (excerpt)：

基板上に微細凹凸パターンを有する微細凹凸パターン成形用成形型において、前記微細凹凸パターンを窒素とクロムとを含む材料で構成し、かつこの材料中の窒素含有量を20原子%以上にしたことを特徴とする微細凹凸パターン成形用成形型。

IPC (6)：

B29C 59/02 ,  B29C 33/38 ,  B29C 33/42 ,  B29C 45/37 ,  G11B 7/26 511 ,  B29L 17:00