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J-GLOBAL ID：200903023169953932

金属基板への酸化物超電導膜の製造方法

Inventor： 小川 義光 ,  伊藤 有一 ,  石合 淳一 ,  柳川 学 ,  吉澤 秀二
Applicant, Patent owner： 同和鉱業株式会社
Agent (1)： 丸岡 政彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992110889
Publication number (International publication number)：1993279026
Application date： Apr. 03, 1992
Publication date： Oct. 26, 1993
Summary：

【要約】【目的】 高耐熱性、低反応性、熱膨張係数等の超電導特性に優れ、かつ大型化や長尺化等が容易である加工性に優れた安価な金属基板への酸化物超電導膜の製造方法の提供。【構成】 まず、Bi:Pb:Sr:Ca:Cu= 8: 4:10:10:15の割合で混合した各酸化物および炭酸塩を空気中で焼成し( 850°C、50時間)、焼成後、これを徐冷して(Bi,Pb)2 Sr2 Ca2 Cu3 Oy 酸化物超電導粉末を作製する。次いで、得られた(Bi,Pb)2 Sr2 Ca2 Cu3 Oy 酸化物超電導粉末と、テルピネオール(有機溶剤)にポリイソブチルメタクリレート(アクリル系樹脂)を10wt%溶かしたものとを、 3:1の重量比で混合してペースト化する。次に、このペーストをスプレー塗布法により、Ni基板上に膜厚 100μmで塗布し、 100時間空気中で焼成する。焼成後、これを徐冷して(Bi,Pb)2 Sr2 Ca2 Cu3 Oy 酸化物超電導厚膜を得る。

Claim (excerpt)：

金属Ni基板上に酸化物超電導膜を成膜することを特徴とする金属基板への酸化物超電導膜の製造方法。

IPC (7)：

C01G 1/00 ,  C01G 29/00 ZAA ,  H01B 13/00 565 ,  H01L 39/24 ZAA ,  H05K 1/05 ZAA ,  H05K 9/00 ZAA ,  H01B 12/06 ZAA