Pat
J-GLOBAL ID:200903023181085660

撮像モジュール、および撮像装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 外川 英明
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1997240692
Publication number (International publication number):1999085386
Application date: Sep. 05, 1997
Publication date: Mar. 30, 1999
Summary:
【要約】【課題】光を発光する手段と撮像手段を同期的に動作させ、物体の反射光画像を得るための撮像装置において、物体の形状に凹凸がある場合に、凸部に遮られて凹部に十分な光が届かないことによって正しくない形状が捉えられてしまうことがあった。また撮像範囲はできるだけ均一に発光手段で照らす必要があった。【解決手段】発光手段と撮像手段を近づけて配置することにより、対称物体に凹凸があっても均一に光を当てることができ、正しい形状を検出できる。また、複数の発光手段を用いる場合、撮像手段に対し対称に配置することにより、比較的均一に物体を照らすことができる。また、反射手段を併用することにより、さらに均一さを増すことができる。
Claim (excerpt):
光を発光する発光手段と、この発光手段から発光された光の撮像すべき物体による反射光を撮像する撮像手段を有する撮像モジュールにおいて、撮像手段の外周部分の近傍に光を発光する発光手段を配置したことを特徴とする撮像モジュール。
IPC (2):
G06F 3/033 310 ,  G06F 3/03 380
FI (2):
G06F 3/033 310 Y ,  G06F 3/03 380 K
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (11)
  • 撮像装置
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平7-170464   Applicant:キヤノン株式会社
  • 空間マウス及びマウス位置検出装置及び映像化装置
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平8-075950   Applicant:株式会社ビジュアルサイエンス研究所
  • 画像を用いた入力システム
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平5-290699   Applicant:株式会社日立製作所
Show all
Cited by examiner (2)

Return to Previous Page