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J-GLOBAL ID：200903023184563318

光ディスク保護膜及び同保護膜形成用スパッタリングタ-ゲット

Inventor： 桑野 勝雄 ,  高見 英生
Applicant, Patent owner： 株式会社ジャパンエナジー
Agent (1)： 小越 勇 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998372318
Publication number (International publication number)：2000195101
Application date： Dec. 28, 1998
Publication date： Jul. 14, 2000
Summary：

【要約】【課題】 パーティクルの発生を極力減少させ、スパッタリングの中断または中止の回数を減らして生産効率を上げると同時に、より透過率が大きくかつ低反射率の光ディスク保護膜を得る。【解決手段】 ZnO、In2O3又はSnO2 の1又は2以上を主成分とすることを特徴とする光ディスク保護膜。必要に応じて、さらにAl2O3若しくはGa2O3又はZrO2若しくはTiO2を含有する光ディスク保護膜。

Claim (excerpt)：

ZnO、In2O3又はSnO2 の1又は2以上を主成分とすることを特徴とする光ディスク保護膜。

IPC (4)：

G11B 7/24 534 ,  C23C 14/08 ,  C23C 14/34 ,  G11B 7/26

FI (5)：

G11B 7/24 534 K ,  C23C 14/08 C ,  C23C 14/08 D ,  C23C 14/34 A ,  G11B 7/26

F-Term (10)：

4K029BA45 ,  4K029BA47 ,  4K029BA49 ,  4K029BA50 ,  4K029BD00 ,  4K029DC05 ,  5D029LA12 ,  5D029LA14 ,  5D121AA04 ,  5D121EE09

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 特開平1-264646
  
• 特開平4-325938
  
• 特開平3-152736
  
• 特開昭61-180945