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J-GLOBAL ID：200903023186583588

透明導電膜およびその製造方法

Inventor： 浅野 雅朗 ,  羽音 大作
Applicant, Patent owner： 大日本印刷株式会社
Agent (1)： 米田 潤三 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995209193
Publication number (International publication number)：1997031630
Application date： Jul. 25, 1995
Publication date： Feb. 04, 1997
Summary：

【要約】【目的】 脱ガスを生じるような耐熱性にとぼしい基材上に成膜される低抵抗でパターニング特性に優れた透明導電膜と、このような透明導電膜を簡便に形成することができる製造方法を提供する。【構成】 非晶性の下層膜と結晶性の上層膜とを有し、膜厚方向において結晶構造が異なる透明導電膜とし、このような透明導電膜を、耐熱性にとぼしい基材上に下層膜用と上層膜用で異なる組成のターゲット材を用いて成膜するか、あるいは同組成のターゲット材を使用し下層膜形成時の条件と上層膜形成時の条件とを変化させて成膜する。

Claim (excerpt)：

耐熱性にとぼしい基材上に形成され、非晶質性の下層膜と結晶質性の上層膜とを有し、膜厚方向において結晶構造が異なることを特徴とする透明導電膜。

IPC (8)：

C23C 14/08 ,  B32B 7/02 104 ,  C08J 7/06 ,  C23C 14/34 ,  G02F 1/1343 ,  H01B 13/00 503 ,  B32B 9/00 ,  H01L 21/203

FI (9)：

C23C 14/08 D ,  C23C 14/08 N ,  B32B 7/02 104 ,  C08J 7/06 B ,  C23C 14/34 V ,  G02F 1/1343 ,  H01B 13/00 503 B ,  B32B 9/00 A ,  H01L 21/203 S

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開昭61-114844
  
• 透明導電膜の成膜装置および成膜方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-118578   Applicant：株式会社日立製作所
• 特開昭63-018073