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J-GLOBAL ID：200903023210152704
多孔体細孔の微細化方法
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
光石 俊郎 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991279986
Publication number (International publication number)：1993117053
Application date： Oct. 25, 1991
Publication date： May. 14, 1993
Summary：
【要約】【目的】 高温での長時間使用によっても微細孔が消滅しないようにする。【構成】 無機多孔体の細孔内にシリカゲル、アルミナゲルまたはシリカ・アルミナゲルからなる封孔材を担持した後、約350〜600°Cで焼成処理する。
Claim (excerpt)：
無機多孔体の細孔内にシリカゲル、アルミナゲルまたはシリカ・アルミナゲルからなる封孔材を担持して細孔を微細化する方法であって、上記封孔材を担持後に約350〜600°Cで焼成処理することを特徴とする多孔体細孔の微細化方法。
Patent cited by the Patent：
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