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J-GLOBAL ID：200903023211049052

硬基板塗布・プリベ-ク装置

Inventor： 山崎 信哉 ,  松岡 寛 ,  熊谷 広文 ,  尾崎 正文 ,  江本 辰弥
Applicant, Patent owner： 富士写真フイルム株式会社
Agent (1)： 山田 文雄 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992140966
Publication number (International publication number)：1993309301
Application date： May. 06, 1992
Publication date： Nov. 22, 1993
Summary：

【要約】【目的】 塗布液槽に上部を残して水平に浸漬されたバ-とその上方の押圧ロ-ルとを用いて塗布液をその下面に塗布した硬基板を、間欠搬送手段を有する乾燥炉においてプリベ-クする場合に、間欠搬送手段の支持材が基板に接触することにより塗布が不均一になることを防止し、品質を向上させる。【構成】 乾燥炉に硬基板の非塗布面を第1および第2の支持体により交互に下から支持し両支持体の相対移動により前記硬基板を間欠的に送る間欠搬送手段を設け、塗布部と乾燥炉との間に硬基板の塗布面を加熱せずに乾燥する予備乾燥部を設けた。

Claim (excerpt)：

塗布液槽に上部を残して水平に浸漬されたバーと、このバーの上方に配設された押圧ロ-ルとの間に硬基板を挟持して送ることにより、前記硬基板の下面に塗布液を塗布する塗布部と、前記硬基板をプリベ-クする乾燥炉とを備える硬基板塗布・プリベ-ク装置において、前記乾燥炉に設けられ前記硬基板の非塗布面を第1および第2の支持体により交互に下から支持し両支持体の相対移動により前記硬基板を間欠的に送る間欠搬送手段と、前記塗布部と乾燥炉との間に設けられ前記硬基板の塗布面を加熱せずに乾燥する予備乾燥部とを備えることを特徴とする硬基板塗布・プリベ-ク装置。

IPC (6)：

B05C 1/02 102 ,  B05C 9/12 ,  B05C 13/00 ,  G03F 7/16 502 ,  G03F 7/26 ,  H01L 21/027

FI (2)：

H01L 21/30 361 B ,  H01L 21/30 361 F