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J-GLOBAL ID：200903023271329097

超高分子量ポリエチレン不織布及び製造方法

Inventor： 山口 博生 ,  大森 隆治 ,  白木 武
Applicant, Patent owner： サンレックス工業株式会社 ,  三井石油化学工業株式会社
Agent (1)： 遠山 勉 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991285216
Publication number (International publication number)：1994010254
Application date： Oct. 30, 1991
Publication date： Jan. 18, 1994
Summary：

【要約】【目的】 超高分子量ポリエチレンからなる高強度な不織布を提供する。【構成】 極限粘度(η)が5dl/g以上の超高分子量ポリエチレンのフィルムをスリットし、100°C〜150°Cの温度下でこのスリットフィルムを少なくとも縦方向に2倍以上延伸して延伸テープを得る工程と、前記延伸テープを80°C以下に冷却した後、解繊比(ロール周速/テープ速度)0.5〜4.0で解繊してスプリットヤーンを得る工程と、このスプリットヤーンをウェブに成形する工程と、このウェブを接合する工程とにより超高分子量ポリエチレン不織布を形成する。

Claim (excerpt)：

極限粘度(η)が5dl/g以上の超高分子量ポリエチレンのフィルムをスリットし、100°C〜150°Cの温度下でこのスリットフィルムを少なくとも縦方向に2倍以上延伸して得られる延伸テープを材料とした超高分子量ポリエチレン不織布。

IPC (3)：

D04H 1/42 ,  D01F 6/04 ,  D04H 1/54

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• スプリット化ポリエチレン延伸材料およびその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-117656   Applicant：日本石油株式会社, 日本石油化学株式会社, 株式会社高分子加工研究所