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J-GLOBAL ID:200903023323916310
照明光学系およびこれを用いた投写型表示装置
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
川野 宏
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2002380427
Publication number (International publication number):2004212529
Application date: Dec. 27, 2002
Publication date: Jul. 29, 2004
Summary:
【目的】リフレクタを備えた主要光源部からの光束の外周部の光束低密部に光束を補うように光束を出射する外周補助光源部と、各々の光束の光量分布均一化手段とを備え、コンパクトかつ照明効率が高く明るく均一な照明を行ない得る照明光学系およびこれを用いた投写型表示装置を得る。【構成】放物面鏡リフレクタ12を備えた主要光源部1と、主要光源部1からの光束の外周部および中央部の光束低密部に光束を補う外周および中央補助光源部8、2と、各光源部1、8、2からの光束の光量分布の均一化を図る第1インテグレータ部4、第2インテグレータ部(不図示)、第3インテグレータ部5とを備えた照明光学系である。レーザ光源52a、52bよりなる外周補助光源部8からの光束はリフレクタ光軸に対し互いに略回転対称となる位置に導入され、光路上の部材は中央補助光源部2からの光束の光路上の部材と略同様であってこれに平行に配されている。【選択図】 図1
Claim (excerpt):
発光体およびこの発光体から出射された光を被照明体側に反射するリフレクタを備えた主要光源部と、この主要光源部からの光束の光量均一化を図る主要インテグレータ部と、前記主要光源部から出射された光束の外周部の光束低密部に光束を補うように光束を出射する外周補助光源部と、この外周補助光源部からの光束の光量均一化を図る外周補助インテグレータ部とを備えたことを特徴とする照明光学系。
IPC (3):
G02B27/18
, G03B21/00
, G03B21/14
FI (3):
G02B27/18 Z
, G03B21/00 E
, G03B21/14 A
F-Term (9):
2K103AA01
, 2K103AA05
, 2K103AA11
, 2K103AA16
, 2K103AB04
, 2K103AB07
, 2K103BA09
, 2K103BA11
, 2K103BC26
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (10)
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特開平4-104241
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光強度変換素子及び光学装置及び光ディスク装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-057003
Applicant:富士通株式会社
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光源装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-354470
Applicant:テキサスインスツルメンツインコーポレイテツド, ソニー株式会社
-
偏光照明装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-224891
Applicant:株式会社ニコン
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照明装置とこれを用いた投写型表示装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-054846
Applicant:株式会社東芝
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広帯域スペクトル光源を補うための狭帯域スペクトル光源を含むプロジェクタ
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2003-127877
Applicant:ヒューレット-パッカードデベロップメントカンパニーエル.ピー.
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投写用光学装置及びそれを用いた投写型画像ディスプレイ装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-374061
Applicant:株式会社日立製作所
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投写型表示装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-111009
Applicant:株式会社東芝
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光強度変換素子及び光記憶装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-260281
Applicant:富士通株式会社
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プロジェクタ装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-132815
Applicant:エヌイーシービューテクノロジー株式会社
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