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J-GLOBAL ID：200903023324027055

処理装置

Inventor： 立山 清久
Applicant, Patent owner： 東京エレクトロン株式会社 ,  東京エレクトロン九州株式会社
Agent (1)： 中本 菊彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992213733
Publication number (International publication number)：1994037003
Application date： Jul. 17, 1992
Publication date： Feb. 10, 1994
Summary：

【要約】【目的】 回転保持手段の始動加速時及び停止減速時においても被処理体の保持を安定させ、かつ、被処理体の裏面への処理液の侵入を防止する。【構成】 ウエハWを保持するスピンチャック1に、吸着保持機構10と補助保持機構15を形成する。吸着保持機構10をスピンチャック1に設けられたN2ガス供給通路3を通ってウエハWの裏面側に供給されるN2 ガスによる負圧を利用する機構にて形成する。補助保持機構15を、スピンチャック1に対して回転可能に配設されると共に、正逆回転方向にスプリング17の弾性力を付勢した回転体16と、スピンチャック1に揺動可能に枢着されると共に、一端が回転体16に回転及び摺動可能に係合され、他端にウエハWの押圧部19a,19bを有する保持体18とで構成する。これにより、スピンチャック1の始動加速時及び停止減速時においてもウエハWを確実に保持することができ、ウエハWの処理中において、ウエハWの裏面への処理液の侵入を防止することができる。

Claim (excerpt)：

被処理体を回転保持手段にて保持すると共に、被処理体の表面に処理液を供給して処理する処理装置において、上記回転保持手段に、上記被処理体の保持面側に向って供給される気体による負圧を利用して被処理体を保持する吸着保持機構と、回転保持手段の始動加速時及び停止減速時に作動して上記被処理体を保持する補助保持機構とを具備してなることを特徴とする処理装置。

IPC (2)：

H01L 21/027 ,  H01L 21/68