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J-GLOBAL ID：200903023407985082

ガス溶解水製造装置

Inventor： 山下 幸福
Applicant, Patent owner： オルガノ株式会社
Agent (1)： 細井 勇
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998188232
Publication number (International publication number)：2000008083
Application date： Jun. 18, 1998
Publication date： Jan. 11, 2000
Summary：

【要約】【課題】 電解装置により発生した水素ガスをガス溶解装置に導入して純水に水素ガスを溶解し、水素溶解水を製造するに当たり、微粒子状の金属不純物が水素ガスに同伴されて水素溶解水中に混入するのを防止する。【解決手段】 電解装置1とガス溶解装置2との間にガス供給管7を設け、このガス供給管7に気液分離器12を設けてなるガス溶解水製造装置において、ガス溶解装置2と気液分離器12との間に連結されたガス供給管7に、微粒子状の金属不純物を除去するためのフィルター装置13を設ける。

Claim (excerpt)：

純水供給管を流れる純水と、ガス供給管を流れるガスとが接触する気液接触部を設け、この気液接触部において純水にガスを溶解してガス溶解水を製造するようにしたガス溶解水製造装置において、ガス供給管の任意の箇所に、金属不純物を除去するためのフィルター装置を設けてなることを特徴とするガス溶解水製造装置。

F-Term (3)：

4H003DA15 ,  4H003EA31 ,  4H003ED02

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• アンモニア水の製造装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-256471   Applicant：住友化学工業株式会社