Pat
J-GLOBAL ID:200903023429258214
デラフォサイト型酸化物およびその製造方法並びに排気ガス浄化用触媒
Inventor:
,
,
,
,
Applicant, Patent owner:
,
Agent (2):
栗原 浩之
, 村中 克年
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2006343526
Publication number (International publication number):2008156130
Application date: Dec. 20, 2006
Publication date: Jul. 10, 2008
Summary:
【課題】貴金属の存在を必要とせず、低温域から高温域まで高い酸素貯蔵能を有するデラフォサイト型酸化物およびその製造方法並びに排気ガス浄化用触媒を提供する。【解決手段】一般式ABOx(式中、AはCu、Ag、Pd及びPtからなる群から選択される少なくとも1種を表し、BはAl、Cr、Ga、Fe、Mn、Co、Rh、Ni、In、La、Nd、Sm、Eu、Y及びTiからなる群から選択される少なくとも1種を表す)で示される3R型デラフォサイト型酸化物である。【選択図】なし
Claim (excerpt):
一般式ABOx(式中、AはCu、Ag、Pd及びPtからなる群から選択される少なくとも1種を表し、BはAl、Cr、Ga、Fe、Mn、Co、Rh、Ni、In、La、Nd、Sm、Eu、Y及びTiからなる群から選択される少なくとも1種を表す)で示される3R型デラフォサイト型酸化物であることを特徴とするデラフォサイト型酸化物。
IPC (14):
C01G 49/00
, C01G 3/00
, C01G 37/00
, C01G 45/00
, C01G 15/00
, B01J 23/74
, B01J 23/72
, B01J 23/86
, B01J 23/889
, B01J 23/825
, B01J 23/835
, B01J 23/76
, B01D 53/94
, F01N 3/10
FI (13):
C01G49/00 A
, C01G3/00
, C01G37/00
, C01G45/00
, C01G15/00
, B01J23/74 A
, B01J23/72 A
, B01J23/86 A
, B01J23/84 311A
, B01J23/82 A
, B01J23/76 A
, B01D53/36 104A
, F01N3/10
F-Term (70):
3G091AB03
, 3G091BA01
, 3G091GB01X
, 3G091GB10W
, 3G091GB17X
, 4D048AA06
, 4D048AA13
, 4D048AA18
, 4D048AB01
, 4D048AB02
, 4D048BA03X
, 4D048BA17X
, 4D048BA18X
, 4D048BA25X
, 4D048BA28X
, 4D048BA30Y
, 4D048BA31Y
, 4D048BA34Y
, 4D048BA35X
, 4D048BA36X
, 4D048EA04
, 4G002AA06
, 4G002AB02
, 4G002AE05
, 4G048AA03
, 4G048AB02
, 4G048AB06
, 4G048AC08
, 4G048AE05
, 4G169AA03
, 4G169AA08
, 4G169BA01B
, 4G169BA13A
, 4G169BA13B
, 4G169BA17
, 4G169BB06A
, 4G169BB06B
, 4G169BC16A
, 4G169BC16B
, 4G169BC17A
, 4G169BC17B
, 4G169BC18A
, 4G169BC31A
, 4G169BC31B
, 4G169BC32A
, 4G169BC44A
, 4G169BC44B
, 4G169BC50A
, 4G169BC58A
, 4G169BC58B
, 4G169BC62A
, 4G169BC62B
, 4G169BC66A
, 4G169BC66B
, 4G169BC67A
, 4G169BC68A
, 4G169BC71A
, 4G169BC72A
, 4G169BC75A
, 4G169CA03
, 4G169CA09
, 4G169EA02X
, 4G169EA02Y
, 4G169EC22X
, 4G169EC22Y
, 4G169FA01
, 4G169FA03
, 4G169FB07
, 4G169FB30
, 4G169FB70
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (1)
Cited by examiner (7)
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特開平4-035744
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特開平2-164456
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特開平2-157043
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特開昭61-086944
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光触媒
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-026121
Applicant:株式会社ニコン
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光触媒
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-019319
Applicant:株式会社ニコン
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可視光領域で触媒活性をもつ光触媒
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-049014
Applicant:株式会社ニコン
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Article cited by the Patent:
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