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J-GLOBAL ID：200903023433194638

フォトマスク及びアクティブ素子アレイ基板の製造方法

Inventor： 広瀬 貴司 ,  坪井 伸行 ,  田村 達彦
Applicant, Patent owner： 松下電器産業株式会社
Agent (1)： 岡本 宜喜
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997319443
Publication number (International publication number)：1999153809
Application date： Nov. 20, 1997
Publication date： Jun. 08, 1999
Summary：

【要約】【課題】 アクティブ素子アレイ基板の製造において、実装端子部の短絡を防止すること。【解決手段】 液晶表示パネルの開口率を向上させる手段として、層関絶縁膜の膜圧を大きくし、TFT周辺における画素電極の面積を広げる。フォトマスク20Aの実装端子部のパターンとして、開口部20aと遮光部20bの間に境界部20cを設ける。境界ブロック20cのパターンを凹凸状とし、そのピッチと凹凸の高さを露光機の解像度より小さくする。こうすると実装端子部の層関絶縁材料膜7cを除去する工程において、相関絶縁膜端部7bの傾斜角がなだらかになる。従ってゲート絶縁膜11の端部において、画素電極の残渣による隣接実装端子6a間の短絡がなくなる。

Claim (excerpt)：

液晶表示パネルの各画素の液晶を駆動するアクティブ素子のアレイ基板の製造時に用いられ、画素電極と前記アクティブ素子とを絶縁する層間絶縁膜を形成するためのフォトマスクであって、特定画素の前記アクティブ素子と前記画素電極とを連結するため、露光機の照射光を通過させるコンタクトホールパターンと、前記各アクティブ素子に与える外部信号線となる複数の実装端子部において、成膜された層間絶縁材料膜の一部を除去するため、露光機の照射光を通過させる開口部パターンと、を具備し、前記露光機の照射光を遮蔽する遮光部パターンと前記開口部パターンとの間に、前記露光機の分解能より小さいピッチを有する境界部パターンを設けたことを特徴とするフォトマスク。

IPC (3)：

G02F 1/136 500 ,  H01L 29/786 ,  H01L 21/336

FI (2)：

G02F 1/136 500 ,  H01L 29/78 612 D