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J-GLOBAL ID:200903023467354014
耐圧水素透過膜の製造方法及び補修方法
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
,
Agent (1):
堀田 実 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1998290511
Publication number (International publication number):2000119002
Application date: Oct. 13, 1998
Publication date: Apr. 25, 2000
Summary:
【要約】【課題】 多孔質板の上にパラジウム膜を均一に、かつピンホールが少ない膜を形成する製造方法を提供することを目的とする。さらにピンホールが発生したときの補修方法を提供することを目的とする。【解決手段】 ニッケル粉末を焼成して多孔質板を形成し、この多孔質板の表面に生じた空孔を粒径1μm以下のニッケルの粒子で覆い、400°C〜900°Cの温度で約1時間焼成し、このニッケル粒子を焼成した表面に、パラジウムのメッキをする。
Claim (excerpt):
ニッケル粉末を焼成して多孔質板を形成し、この多孔質板の表面に生じた空孔を粒径1μm以下のニッケルの粒子で覆い、400°C〜900°Cの温度で約1時間焼成し、このニッケル粒子を焼成した表面に、パラジウムのメッキをすることを特徴とする平板構造の耐圧水素透過膜の製造方法。
IPC (4):
C01B 3/56
, B22F 3/26
, C23C 18/18
, C23C 18/42
FI (4):
C01B 3/56 Z
, B22F 3/26 A
, C23C 18/18
, C23C 18/42
F-Term (16):
4G040FA01
, 4G040FB09
, 4G040FC01
, 4G040FC07
, 4G040FE01
, 4K018AA07
, 4K018DA21
, 4K018DA35
, 4K018FA23
, 4K018KA22
, 4K022AA02
, 4K022AA37
, 4K022AA41
, 4K022BA14
, 4K022DA06
, 4K022EA04
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