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J-GLOBAL ID：200903023492813660

有機ヒ素化合物の処理方法

Inventor： 渋谷 守 ,  藤堂 福蔵 ,  小西 裕和
Applicant, Patent owner： 日揮株式会社
Agent (1)： 志賀 正武 (外7名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999341485
Publication number (International publication number)：2001158622
Application date： Nov. 30, 1999
Publication date： Jun. 12, 2001
Summary：

【要約】【課題】 環境を汚染することなく、有機ヒ素化合物を完全に無機ヒ素に分解することができる有機ヒ素化合物の処理方法を提供する。【解決手段】 水性媒体中の有機ヒ素化合物に、鉄イオン、銅イオン、コバルトイオンおよびマンガンイオンからなる群より選ばれる少なくとも1種の金属イオンの存在下、過酸化水素を反応させて、有機ヒ素化合物を無機ヒ素に酸化分解する有機ヒ素化合物の処理方法。

Claim (excerpt)：

水性媒体中の有機ヒ素化合物に、鉄イオン、銅イオン、コバルトイオンおよびマンガンイオンからなる群より選ばれる少なくとも1種の金属イオンの存在下、過酸化水素を反応させて、有機ヒ素化合物を無機ヒ素に酸化分解することを特徴とする有機ヒ素化合物の処理方法。

IPC (3)：

C01G 28/02 ,  A62D 3/00 ,  C07F 9/74

FI (3)：

C01G 28/02 ,  A62D 3/00 ,  C07F 9/74

F-Term (13)：

2E191BA11 ,  2E191BB00 ,  2E191BC01 ,  2E191BD11 ,  4G048AA02 ,  4G048AA07 ,  4G048AB08 ,  4G048AE01 ,  4G048AE08 ,  4H050AA05 ,  4H050BE32 ,  4H050WA13 ,  4H050WA16