Pat
J-GLOBAL ID:200903023505002496

金属酸化物薄膜の製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 塩澤 寿夫 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1999219645
Publication number (International publication number):2001049444
Application date: Aug. 03, 1999
Publication date: Feb. 20, 2001
Summary:
【要約】【課題】 ポリマー基材上にも、実用レベルに達する良い付着力を持つ酸化物薄膜を形成できる成膜方法を提供すること。【解決手段】 フルオロ金属錯体化合物及びフッ素捕捉剤を含有する水溶液に浸漬した基材上に、前記フルオロ金属錯体化合物由来の金属酸化物薄膜を析出させる方法であって、前記基材が高分子材料からなり、かつその表面の少なくとも一部が親水化処理されたものである金属酸化物薄膜の製造方法。親水化処理としては、有機溶剤による処理、酸溶液処理、アルカリ溶液処理のような化学的処理方法、及びプラズマグロー放電のような物理的処理を挙げることができる。
Claim (excerpt):
フルオロ金属錯体化合物及びフッ素捕捉剤を含有する水溶液に浸漬した基材上に、前記フルオロ金属錯体化合物由来の金属酸化物薄膜を析出させる方法であって、前記基材が高分子材料からなり、かつその表面の少なくとも一部が親水化処理されたものであることを特徴とする金属酸化物薄膜の製造方法。
IPC (3):
C23C 18/18 ,  C01G 23/053 ,  C08J 7/04
FI (3):
C23C 18/18 ,  C01G 23/053 ,  C08J 7/04 T
F-Term (37):
4F006AA04 ,  4F006AA12 ,  4F006AA15 ,  4F006AA22 ,  4F006AA35 ,  4F006AA36 ,  4F006AA38 ,  4F006AA58 ,  4F006AB68 ,  4F006AB74 ,  4F006BA00 ,  4F006BA10 ,  4F006CA00 ,  4F006DA00 ,  4F006EA01 ,  4F006EA03 ,  4G047CA02 ,  4G047CB05 ,  4G047CC03 ,  4G047CD02 ,  4G047CD07 ,  4K022AA14 ,  4K022AA15 ,  4K022AA16 ,  4K022AA19 ,  4K022AA20 ,  4K022AA23 ,  4K022AA41 ,  4K022BA15 ,  4K022BA22 ,  4K022BA33 ,  4K022BA34 ,  4K022CA02 ,  4K022CA12 ,  4K022CA15 ,  4K022CA16 ,  4K022CA22

Return to Previous Page