ポジ型感光性組成物

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：萩野平 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998112196
Publication number (International publication number)：1999305439
Application date： Apr. 22, 1998
Publication date： Nov. 05, 1999
Summary：

【要約】【課題】深紫外線、特にArFエキシマレーザー光に対して、特に残膜率、レジストプロファイルが優れるとともに、現像欠陥の問題を生じないポジ型感光性組成物を提供すること。【解決手段】環状脂肪族炭化水素骨格構造を含有する、酸の作用により分解しアルカリ可溶性となる重合体、活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、特定の部分構造を有する、分子量が1000以下の複素環状化合物、含窒素塩基性化合物、及びフッソ系及び/またはシリコン系界面活性剤を含有するポジ型感光性組成物。

Claim (excerpt)：

(A)環状脂肪族炭化水素骨格構造を含有する、酸の作用により分解しアルカリ可溶性となる重合体、(B)活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、(C)下記(式-1)で表される部分構造を有する、分子量が1000以下の複素環状化合物、(D)含窒素塩基性化合物、及び(E)フッソ系及び/またはシリコン系界面活性剤を含有することを特徴とするポジ型感光性組成物。【化1】(式中、Z1 は酸素原子もしくは硫黄原子を表し、Z2 は水素原子もしくは水酸基を表す。)

IPC (6)：

G03F 7/039 601 , C08G 61/08 , G03F 7/004 501 , G03F 7/004 504 , H01L 21/027 , C08L 45/00

FI (6)：

G03F 7/039 601 , C08G 61/08 , G03F 7/004 501 , G03F 7/004 504 , C08L 45/00 , H01L 21/30 502 R

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

レジスト組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-312669 Applicant：日本ゼオン株式会社
感放射線性樹脂組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-062294 Applicant：日本合成ゴム株式会社
ポジ型感放射線性樹脂組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-066322 Applicant：富士写真フイルム株式会社

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