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J-GLOBAL ID：200903023586863695

レーザトリミングステージ

Inventor： 刈谷 悟
Applicant, Patent owner： イビデン株式会社
Agent (1)： 安富 康男 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000337633
Publication number (International publication number)：2002144056
Application date： Nov. 06, 2000
Publication date： May. 21, 2002
Summary：

【要約】【課題】 生産性を低下させず、セラミック基板を傷つけることなく、容易に短時間でセラミック基板を載置、固定することができるレーザトリミングステージを提供する。【解決手段】 レーザトリミングにより、セラミック基板上に抵抗発熱体を形成するか、または、前記セラミック基板上に形成された抵抗発熱体の抵抗値を調整する際、前記セラミック基板を載置、固定するレーザトリミングステージであって、前記セラミック基板に設けられた貫通孔に嵌合する突起、および、前記セラミック基板の側面に当接する突起が設けられていることを特徴とするレーザトリミングステージ。

Claim (excerpt)：

レーザトリミングにより、セラミック基板上に抵抗発熱体を形成するか、または、前記セラミック基板上に形成された抵抗発熱体の抵抗値を調整する際、前記セラミック基板を載置、固定するレーザトリミングステージであって、前記セラミック基板に設けられた貫通孔に嵌合する突起、および、前記セラミック基板の側面に当接する突起が設けられていることを特徴とするレーザトリミングステージ。

IPC (4)：

B23K 26/00 ,  B23K 26/10 ,  H01C 17/242 ,  B23K101:42

FI (4)：

B23K 26/00 C ,  B23K 26/10 ,  B23K101:42 ,  H01C 17/24 L

F-Term (14)：

4E068AC00 ,  4E068CB05 ,  4E068CE05 ,  4E068CE09 ,  4E068DA11 ,  4E068DB12 ,  5E032AB10 ,  5E032BA03 ,  5E032BB01 ,  5E032CB01 ,  5E032CC01 ,  5E032CC18 ,  5E032TA12 ,  5E032TB02