反射防止膜材料、これを用いた反射防止膜及びパターン形成方法

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (4)：奥山尚一 , 有原幸一 , 松島鉄男 , 河村英文
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004165524
Publication number (International publication number)：2005018054
Application date： Jun. 03, 2004
Publication date： Jan. 20, 2005
Summary：

【課題】レジストに対してエッチング選択比が高い、即ちレジストに対してエッチングスピードが速い反射防止膜の材料を提供し、且つこの反射防止膜材料を用いて基板上に反射防止膜層を形成するパターン形成方法及び、この反射防止膜を基板加工のハードマスクとして用いるパターン形成方法も提供する。【解決手段】 (A)下記一般式(1)及び/又は下記一般式(2)で表される共重合によるくり返し単位を有する高分子化合物と、(B)有機溶媒と、(C)酸発生剤とを含有する反射防止膜材料を提供する。【化1】【選択図】なし

Claim (excerpt)：

下記一般式(1)で表される共重合によるくり返し単位を有することを特徴とする高分子化合物と、

IPC (2)：

G03F7/11 , H01L21/027

FI (2)：

G03F7/11 503 , H01L21/30 574

F-Term (49)：

2H025AA17 , 2H025AB16 , 2H025AD01 , 2H025AD03 , 2H025DA34 , 2H025FA35 , 2H025FA39 , 4J246AA03 , 4J246AA06 , 4J246AA11 , 4J246AA19 , 4J246AB06 , 4J246AB15 , 4J246BA020 , 4J246BA040 , 4J246BA12X , 4J246BA120 , 4J246BB02X , 4J246BB020 , 4J246BB022 , 4J246BB450 , 4J246BB451 , 4J246CA13U , 4J246CA13X , 4J246CA130 , 4J246CA350 , 4J246CA390 , 4J246CA40X , 4J246CA400 , 4J246CA53X , 4J246CA560 , 4J246CA640 , 4J246CA68X , 4J246CA680 , 4J246CA690 , 4J246CB08 , 4J246FA081 , 4J246FA131 , 4J246FA421 , 4J246FA441 , 4J246FB211 , 4J246GA01 , 4J246GB33 , 4J246GC25 , 4J246GC26 , 4J246GD08 , 4J246HA15 , 4J246HA23 , 5F046PA07

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (23)

リソグラフィー用下地材
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-244050 Applicant：東京応化工業株式会社
特開平57-131250号公報
特開昭56-129261号公報

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Cited by examiner (4)

反射防止膜形成用組成物及びそれに用いるラダー型シリコーン共重合体
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2003-396335 Applicant：東京応化工業株式会社
ハードマスク層用の反射防止SiO含有組成物
Gazette classification：公表公報 Application number：特願2003-586669 Applicant：インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーション
反射防止膜材料、反射防止膜を有する基板及びパターン形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2003-369596 Applicant：信越化学工業株式会社

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