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J-GLOBAL ID：200903023631712709

干渉測定装置

Inventor： ミヒャエル リントナー
Applicant, Patent owner： ローベルト ボツシユ ゲゼルシヤフト ミツト ベシユレンクテル ハフツング
Agent (3)： 矢野 敏雄 ,  アインゼル・フェリックス=ラインハルト ,  ラインハルト・アインゼル
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2005518299
Publication number (International publication number)：2006513439
Application date： Apr. 03, 2004
Publication date： Apr. 20, 2006
Summary：

本発明は、短コヒーレント放射を放出する放射源(LQ)と、パノラマ光学系(RSO)を有する対象光路程を介して対象(O)にガイドされる対象ビーム(OS)と参照光路程を介して反射型参照エレメント(R)にガイドされる参照ビーム(RS)とを形成するためのビームスプリッター(ST)と、対象(O)および参照エレメント(R)によって反射されかつ干渉された放射を検出しかつ表面形状を突き止めるための評価装置に供給する撮像素子(BA)とを用いた奥行きの走査による対象(O)の表面の形状測定のための干渉測定装置に関する。参照エレメント(R)を用いて、対象表面に関して斜めに配向されている参照面(RE)が形成されており、かつ形状測定のための奥行きの走査が対象(O)を対象ビーム(OS)に対して相対的にラテラル方向に移動させることにより行われるようにしたことで、比較的に僅かなコストで、殊に狭い中空空間にある表面をも完全に正確、迅速およびロバストに測定することができるようになる。

Claim (excerpt)：

短コヒーレント放射を放出する放射源(LQ)と、パノラマ光学系(RSO)を有する対象光路程を介して対象(O)にガイドされる対象ビーム(OS)と参照光路程を介して反射型参照エレメント(R)にガイドされる参照ビーム(RS)とを形成するためのビームスプリッター(ST)と、対象(O)および参照エレメント(R)によって反射されかつ干渉された放射を検出しかつ表面形状を突き止めるための評価装置に供給する撮像素子(BA)とを用いた奥行きの走査による対象(O)の表面の形状測定のための干渉測定装置において、 参照エレメント(R)を用いて、対象表面に関して斜めに配向されている参照面(RE)が形成されており、かつ 形状測定のための奥行きの走査が対象(O)を対象ビーム(OS)に対して相対的にラテラル方向に移動させることにより行われるように装置が構成されている ことを特徴とする装置。

IPC (1)：

G01B 9/02

FI (1)：

G01B9/02

F-Term (8)：

2F064AA09 ,  2F064EE01 ,  2F064FF07 ,  2F064GG20 ,  2F064GG22 ,  2F064GG44 ,  2F064GG52 ,  2F064HH08

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

• 投影露光装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-079285   Applicant：キヤノン株式会社