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J-GLOBAL ID：200903023668123177

脱窒素方法、脱窒性硫黄酸化細菌固定担体及び脱窒性硫黄酸化細菌固定担体の製造方法

Inventor： 伊藤 久明 ,  早川 智基 ,  天野 義文 ,  管野 善則 ,  中村 和夫
Applicant, Patent owner： 月島機械株式会社
Agent (1)： 永井 義久
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000318179
Publication number (International publication number)：2002119278
Application date： Oct. 18, 2000
Publication date： Apr. 23, 2002
Summary：

【要約】【課題】溶融硫黄を脱窒性硫黄酸化細菌固定担体として利用することを可能とする。【解決手段】脱窒素処理に際して、被処理液と嫌気条件下または無酸素条件下で接触する脱窒性硫黄酸化細菌固定担体であって、単体硫黄からなり、少なくとも前記被処理液と接触する表面部Sが、短径100μm以下の担持孔Hによって多孔質とされる。

Claim (excerpt)：

脱窒素処理に際して、被処理液と嫌気条件下または無酸素条件下で接触する脱窒性硫黄酸化細菌固定担体であって、単体硫黄からなり、表面に短径100μm以下の人工的に形成された担持孔を有することを特徴とする脱窒性硫黄酸化細菌固定担体。

IPC (9)：

C12N 11/14 ,  C02F 3/10 ,  C02F 3/28 ,  C02F 3/34 ,  C02F 3/34 101 ,  C12M 1/00 ,  C12M 1/40 ,  C12N 1/20 ,  C12R 1:01

FI (10)：

C12N 11/14 ,  C02F 3/10 A ,  C02F 3/28 B ,  C02F 3/34 Z ,  C02F 3/34 101 D ,  C12M 1/00 H ,  C12M 1/40 Z ,  C12N 1/20 D ,  C12N 1/20 F ,  C12R 1:01

F-Term (35)：

4B029AA02 ,  4B029AA21 ,  4B029DA01 ,  4B029DB17 ,  4B029DG08 ,  4B033NA01 ,  4B033NA12 ,  4B033NB02 ,  4B033NB12 ,  4B033NB22 ,  4B033NB62 ,  4B033NB64 ,  4B033NC04 ,  4B033ND04 ,  4B033ND20 ,  4B065AA01X ,  4B065AC20 ,  4B065BA22 ,  4B065BC24 ,  4B065BC42 ,  4B065BD05 ,  4B065CA55 ,  4D003AA01 ,  4D003AA13 ,  4D003BA03 ,  4D003EA01 ,  4D003EA19 ,  4D003EA22 ,  4D003FA10 ,  4D040AA04 ,  4D040BB02 ,  4D040BB13 ,  4D040DD03 ,  4D040DD14 ,  4D040DD31

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 硝酸性窒素脱窒基質
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-271920   Applicant：株式会社ニッチツ
• 微生物活性能付与組成物及びその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-106974   Applicant：増島博, 株式会社ニッチツ