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J-GLOBAL ID：200903023683471513

毛髪処理組成物

Inventor： 中村 文昭 ,  河田 恵美子
Applicant, Patent owner： 株式会社資生堂
Agent (1)： ▲高▼野 俊彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999108224
Publication number (International publication number)：2000297014
Application date： Apr. 15, 1999
Publication date： Oct. 24, 2000
Summary：

【要約】【課題】 縮毛矯正処理等により、毛髪に、しっとり感、しなやかさ、なめらかさ、ツヤ及びサラサラ感を付与出来る毛髪処理組成物を提供すること。【解決手段】 亜硫酸塩または亜硫酸水素塩と、特定の第4級アンモニウム塩と、特定のアミノ変性高分子シリコーンとを含有することを特徴とする毛髪処理組成物。

Claim (excerpt)：

(A)亜硫酸塩または亜硫酸水素塩と(B)下記化学式(1)で表される第4級アンモニウム塩と、(C)下記化学式(2)で表されるアミノ変性高分子シリコーンとを含有することを特徴とする毛髪処理組成物。【化1】化学式(1)[式中、R1は炭素数14〜22のアルキル基又はヒドロキシアルキル基を表す。R2、R3及びR4は炭素数1〜3のアルキル基、ヒドロキシアルキル基又はベンジル基を表わす。Xはハロゲン原子又は炭素数1〜2のアルキル硫酸基を表わす。]【化2】化学式(2)[式中、mは8,000〜12,000、nは1〜20の数を表す。]

IPC (4)：

A61K 7/06 ,  A61K 7/09 ,  C08K 5/19 ,  C08L 83/08

FI (4)：

A61K 7/06 ,  A61K 7/09 ,  C08K 5/19 ,  C08L 83/08

F-Term (25)：

4C083AB052 ,  4C083AB082 ,  4C083AB351 ,  4C083AC022 ,  4C083AC072 ,  4C083AC242 ,  4C083AC542 ,  4C083AC691 ,  4C083AC692 ,  4C083AD042 ,  4C083AD161 ,  4C083AD171 ,  4C083CC33 ,  4C083DD31 ,  4C083EE06 ,  4C083EE07 ,  4C083EE28 ,  4J002CP032 ,  4J002CP091 ,  4J002DE028 ,  4J002DG046 ,  4J002EN137 ,  4J002GB00 ,  4J002HA06 ,  4J002HA07

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 毛髪処理剤組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-095151   Applicant：株式会社資生堂
• 特開昭49-134847
  
• 特開昭51-061642
  
• 特開昭61-183213