スルフィド基を有する化合物を用いたフォトニック結晶

Inventor： , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：永井隆
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002332539
Publication number (International publication number)：2004170447
Application date： Nov. 15, 2002
Publication date： Jun. 17, 2004
Summary：

【課題】微小球のコロイド懸濁液から溶媒を除去して得られる最密充填構造体(オパール型構造体)より、最密充填構造部分を除去することにより得られる周期構造体(逆オパール型構造体)において光学特性の優れたフォトニック結晶を提供する。【解決手段】上記のオパール型構造体へスルフィド系化合物を必須成分とする高屈折率組成物を埋め込み、硬化させることで得られる逆オパール型構造体は、可視光波長領域において発現するフォトニックバンド効果が、従来のポリマーを用いた逆オパール型構造体に比べて飛躍的に改善されることを確認した。

Claim (excerpt)：

微小球のコロイド懸濁液から溶媒除去することにより得られる最密充填構造体(I)(オパール型構造体)の空隙にスルフィド基を含有する化合物を必須成分とする高屈折率組成物を埋め込み、硬化させる工程を経て得られる、微小球と高屈折率組成物から成る複合体(II)から、微小球の最密充填構造部分を除去することにより得られる、スルフィド基を含有する化合物を必須成分とする高屈折率組成物から成る、周期構造体(III)(逆オパール型構造体)。

IPC (2)：

G02B5/28 , G02B1/02

FI (2)：

G02B5/28 , G02B1/02

F-Term (4)：

2H048GA11 , 2H048GA32 , 2H048GA51 , 2H048GA60

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (6)

新規な(チオ)エポキシ化合物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-334533 Applicant：三井化学株式会社
光学樹脂用組成物およびその用途
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-092425 Applicant：三井東圧化学株式会社
周期性を示す材料の物質を製造する方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-029411 Applicant：ルーセントテクノロジーズインコーポレイテッド

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Article cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

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