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J-GLOBAL ID：200903023699757786
透明反射層形成方法及びホログラム形成体の製造方法
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
細井 勇
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992026099
Publication number (International publication number)：1993197323
Application date： Jan. 17, 1992
Publication date： Aug. 06, 1993
Summary：
【要約】【目的】 樹脂自体にダメージを与えずに樹脂表面に金属化合物の透明反射層を形成する方法を提供すること、及び、表面のホログラムの微細な凹凸模様に影響を与えずに、樹脂との密着性、反射性等が良好な金属化合物からなる透明反射層を有するホログラム形成体の製造方法を提供することを目的とする。【構成】 蒸着容器の内部の所定の位置に表面に微細凹凸が設けられた樹脂からなる基材をセットし、次いで、蒸着容器内を減圧して真空度を10-5〜10-6Torrに調節した後、ガス導入管から酸素ガスを導入して、加熱蒸発源の金属チタンを任意の温度に加熱して蒸発させ、所定の時間蒸着を行うことで、樹脂層表面に酸化チタンの透明反射膜を形成した。又、ホログラム形成体の製造方法は、微細凹凸にホログラムのレリーフを設けた基材に上記形成方法を用いて透明反射層を形成して製造する。
Claim (excerpt)：
基材樹脂表面に透明反射層と微細凹凸を形成する方法において、基材樹脂を真空中で酸素又は/及び窒素雰囲気下とした状態で蒸発源に金属を用い上記樹脂表面に蒸着を行い、該樹脂表面に上記金属の酸化物又は/及び窒化物からなる金属化合物の透明反射層を形成し、該透明反射層の形成前又は形成後に樹脂表面に微細凹凸を設けることを特徴とする透明反射層形成方法。
IPC (2)：
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (6)
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