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J-GLOBAL ID：200903023704087263
ICPトーチ
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
小沢 信助
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993130527
Publication number (International publication number)：1994342697
Application date： Jun. 01, 1993
Publication date： Dec. 13, 1994
Summary：
【要約】 (修正有)【目的】 ヘリウムガスによる安定なプラズマの発生が可能なICPトーチを提供する。【構成】 トーチは先端部に小孔を有するノズル1a′と,該ノズルの外径より大きな内径を有し一端が前記ノズルの外周に気密に固定され他端が開口された第1筒体1b′と,前記ノズルの外周と前記筒体の内周で形成されるリング状の断面の接線方向に設けられた気体導入口を有する第2筒体31と,前記第1筒体の外周でかつ前記ノズルの先端と前記開口部の間のノズルの先端寄りに巻いて形成され高周波電流を流すことにより高周波磁界を発生するコイル2とからなり,前記第2筒体の導入口の径及びこの第2筒体からノズルまでの距離は前記導入口からヘリウムガスを導入したときに前記ノズルの先端に旋回気流が発生する程度の距離とする。
Claim (excerpt)：
ガスが導入される管状部材の周りに誘導コイルを配設し該コイルに高周波電力を供給してプラズマを生じさせ該プラズマを用いて試料を励起させたり電離させたりして含有されている被測定元素を分析する装置のICPトーチにおいて,前記トーチは先端部に小孔を有するノズルと,該ノズルの外径より大きな内径を有し一端が前記ノズルの外周に気密に固定され他端が開口された第1筒体と,前記ノズルの外周と前記筒体の内周で形成されるリング状の断面の接線方向に設けられた気体導入口を有する第2筒体と,前記第1筒体の外周でかつ前記ノズルの先端と前記開口部の間のノズルの先端寄りに巻いて形成され高周波電流を流すことにより高周波磁界を発生するコイルとからなり,前記第2筒体の導入口の径及びこの第2筒体からノズルまでの距離は前記導入口からヘリウムガスを導入したときに前記ノズルの先端に旋回気流が発生する程度の距離とし,前記第1筒体の開口部とノズルの先端との距離はトーチ内のプラズマと高周波コイルの間で放電が生じない程度の長さに形成したことを特徴とするICPトーチ。
IPC (4)：
H05H 1/28
, G01N 21/73
, G01N 27/68
, H01J 49/10
