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J-GLOBAL ID:200903023739694243

純水の製造装置及び純水の製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 前田 弘 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1993109006
Publication number (International publication number):1994091277
Application date: May. 11, 1993
Publication date: Apr. 05, 1994
Summary:
【要約】【目的】 溶存酸素濃度と有機体炭素濃度の小さい純水を製造する。【構成】 被処理水が流れる流通路8に、能力可変機構を有する溶存酸素除去装置である脱気装置1と、紫外線を照射して有機体炭素を酸化する酸化装置2と、酸化により生成された有機体炭素イオンを除去するイオン除去装置3と、微粒子除去装置4とを上流側から順に配置する。さらに、全有機体炭素濃度測定装置5と、溶存酸素濃度測定装置6と、データ処理装置7とを配置する。被処理水が有機体炭素除去装置(酸化装置2及びイオン除去装置3)において紫外線照射される前に、脱気装置1によって、被処理水中の溶存酸素の濃度を有機体炭素の濃度に見合った値に制御する。これにより、有機体炭素の酸化種を確保し、不純物濃度を低減する。
Claim (excerpt):
被処理水中の溶存酸素及び有機体炭素を除去して、純度の高い純水を得るようにした純水の製造装置において、能力可変機構を有する溶存酸素除去装置と、該溶存酸素除去装置で処理された被処理水中の溶存酸素を利用して有機体炭素を酸化する機構を有する有機体炭素除去装置と、上記溶存酸素除去装置によって処理された被処理水中に残る溶存酸素の濃度を検出する酸素濃度検出手段と、被処理水中の有機体炭素の濃度を検出する有機体炭素濃度検出手段と、上記酸素濃度検出手段で検出される溶存酸素の濃度及び上記有機体炭素濃度検出手段で検出される有機体炭素の濃度に応じ、上記溶存酸素除去装置の能力を制御する能力制御手段と、を備えたことを特徴とする純水の製造装置。
IPC (6):
C02F 1/72 101 ,  C02F 1/20 ZAB ,  C02F 1/58 ,  C02F 9/00 ,  H01L 21/304 341 ,  C02F 1/00
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (1)
  • 特開平4-040292

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