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J-GLOBAL ID：200903023746073890

プラズマ加熱機構を有するプラズマ処理装置

Inventor： 渡辺 成一 ,  古瀬 宗雄
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 高田 幸彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992206422
Publication number (International publication number)：1994053173
Application date： Aug. 03, 1992
Publication date： Feb. 25, 1994
Summary：

【要約】【構成】マイクロ波を利用したプラズマ処理装置において、ジュール加熱あるいは電磁波加熱あるいはビーム加熱あるいは断熱圧縮加熱等のプラズマ加熱機構を設けるように構成した。【効果】生成されたプラズマを追加加熱することができるので、高密度プラズマが生成され、高速プラズマ処理が可能になるという効果がある。

Claim (excerpt)：

マイクロ波を利用したプラズマ発生装置と減圧可能な処理室とガス供給装置と真空排気装置とより成るプラズマ処理装置において、プラズマ加熱機構を設けたことを特徴とするマイクロ波プラズマ処理装置。

IPC (2)：

H01L 21/302 ,  C23F 4/00