Pat
J-GLOBAL ID：200903023750803208
多孔質高分子基材のグラフト処理方法
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
佐藤 良博
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994076305
Publication number (International publication number)：1995258304
Application date： Mar. 24, 1994
Publication date： Oct. 09, 1995
Summary：
【要約】【目的】多孔質高分子基材特にポリオレフィン基材に極性を有するモノマーを含む溶液を塗布した上で放射線を照射しグラフト処理を行う場合、基材と溶液との表面張力が著しく異なり、塗布後の放射線処理までの時間がかかることに伴い、基材表面で溶液がはじかれてしまい、塗布状態が不均一になり、孔内部に保持されず保水性等に問題を生じる。【構成】多孔質高分子基材に、低級アルコールを15vol%以上添加した、極性を有するラジカル重合性化合物を含む溶液を接触させた後、放射線を照射する。【効果】改質度の分布が極めて良好で、グラフト化にバラツキのない、保水性等が良好なポリオレフィン基材を作業性良く得ることができた。
Claim (excerpt)：
多孔質高分子基材に、低級アルコールを15vol%以上添加した、極性を有するラジカル重合性化合物を含む溶液を接触させた後、放射線を照射し、当該ラジカル重合性化合物を前記多孔質高分子基材にグラフト重合させることを特徴とする多孔質高分子基材のグラフト処理方法。
IPC (3)：
C08F 2/00 MCT
, C08F 2/46 MDT
, C08J 7/18
