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J-GLOBAL ID：200903023752626079

表示装置

Inventor： 河村 啓溢 ,  小原 克美 ,  宮崎 正広 ,  河村 孝男 ,  遠藤 喜重
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 武 顕次郎
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993113054
Publication number (International publication number)：1994325702
Application date： May. 14, 1993
Publication date： Nov. 25, 1994
Summary：

【要約】【目的】 反射防止に伴う解像度やコトラストの低下を抑制すると共に、帯電防止機能も併せ持つスクリーン基板構造を備えた表示装置を提供する。【構成】 スクリーンを構成する基板の表面上にSnO2,Sb2O3 ,In2 O3の少なくとも1種を成分とする超微粒子をエチルシリケートの分解により生成したSiO2バインダーで固定してなる第1層と、SiO2,MgF2の少なくとも1種を成分とする超微粒子をエチルシリケートの分解により生成したSiO2バインダーで固定してなる第2層とからなる帯電防止および反射防止膜を形成した。【効果】 各層の光の干渉による反射率低減と、超微粒子の表面形状効果による屈折率連続変化の反射率低減の両原理による低反射性と、第1層による帯電防止性の両機能が得られる。

Claim (excerpt)：

表示装置のスクリーンを構成する基板の表面上にSnO2 ,Sb2 O3 ,In2 O3 の中から選択した少なくとも1種を成分とする超微粒子をエチルシリケートの分解により生成したSiO2 バインダーで固定してなる第1層と、前記第1層上にSiO2 ,MgF2 の中から選択した少なくとも1種を成分とする超微粒子をエチルシリケートの分解により生成したSiO2 バインダーで固定してなる第2層とからなる帯電防止および反射防止膜を形成したことを特徴とする表示装置。

IPC (6)：

H01J 29/88 ,  G02B 1/10 ,  G09F 9/00 309 ,  H01J 29/89 ,  H04N 5/64 541 ,  H04N 5/72