ポジ型レジスト組成物

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (3)：久保山隆 , 中山亨 , 榎本雅之
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003098932
Publication number (International publication number)：2004004703
Application date： Apr. 02, 2003
Publication date： Jan. 08, 2004
Summary：

【課題】F2エキシマレーザーリソグラフィに適した化学増幅型のポジ型レジスト組成物であって、感度や解像度などの各種のレジスト性能が良好であるとともに、特にドライエッチング耐性に優れたポジ型化学増幅型レジスト組成物を提供する。【解決手段】それ自体はアルカリ水溶液に不溶又は難溶であるが、酸の作用でアルカリ水溶液に可溶となる樹脂、酸発生剤並びに多官能エポキシ化合物を含有するポジ型レジスト組成物において、該樹脂中のハロゲン原子含量が40重量%以上であり、該樹脂を構成する構造単位の少なくとも1個が、脂環式炭化水素骨格を有する構造単位であり、該脂環式炭化水素骨格を有する構造単位中に酸の作用で該樹脂をアルカリ水溶液に可溶とせしめる基を少なくとも1つ、及びハロゲン原子を少なくとも1つ有してなるポジ型レジスト組成物。【選択図】なし

Claim (excerpt)：

それ自体はアルカリ水溶液に不溶又は難溶であるが、酸の作用でアルカリ水溶液に可溶となる樹脂、酸発生剤並びに多官能エポキシ化合物を含有するポジ型レジスト組成物において、該樹脂中のハロゲン原子含量が40重量%以上であり、該樹脂を構成する構造単位の少なくとも1個が、脂環式炭化水素骨格を有する構造単位であり、該脂環式炭化水素骨格を有する構造単位中に酸の作用で該樹脂をアルカリ水溶液に可溶とせしめる基を少なくとも1つ、及びハロゲン原子を少なくとも1つ有してなることを特徴とするポジ型レジスト組成物。

IPC (5)：

G03F7/039 , C08F232/00 , C08G59/20 , G03F7/004 , H01L21/027

FI (5)：

G03F7/039 601 , C08F232/00 , C08G59/20 , G03F7/004 501 , H01L21/30 502R

F-Term (41)：

2H025AA01 , 2H025AA02 , 2H025AA09 , 2H025AB16 , 2H025AC04 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BE07 , 2H025BE10 , 2H025CB08 , 2H025CB41 , 2H025CB45 , 2H025CC17 , 2H025CC20 , 2H025FA17 , 2H025FA29 , 4J036AA01 , 4J036AJ05 , 4J036AJ09 , 4J036AJ10 , 4J036JA09 , 4J100AR04R , 4J100AR11P , 4J100AR11Q , 4J100BA02P , 4J100BA03P , 4J100BA03Q , 4J100BA04P , 4J100BA05P , 4J100BA06P , 4J100BA10P , 4J100BB07P , 4J100BB07R , 4J100BB18P , 4J100BB18Q , 4J100BC07P , 4J100BC09P , 4J100BC43P , 4J100CA04 , 4J100CA05 , 4J100JA38

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (9)

パターン形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-167810 Applicant：株式会社東芝
感光性樹脂組成物およびそれを用いたパターン形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-166068 Applicant：日本電気株式会社
化学増幅型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-199097 Applicant：三菱レイヨン株式会社

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