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J-GLOBAL ID：200903023805098746

水素分離構造体

Inventor： 野々部 康宏 ,  小滝 正宏
Applicant, Patent owner： トヨタ自動車株式会社 ,  豊田合成株式会社
Agent (2)： 五十嵐 孝雄 (外3名) ,  五十嵐 孝雄 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996203238
Publication number (International publication number)：1998028850
Application date： Jul. 12, 1996
Publication date： Feb. 03, 1998
Summary：

【要約】【課題】 水素分離構造体10は、広い温度範囲で使用される環境においても、基材12とPdなどからなる第2層16とが剥離することなく、耐久性を改善する。【解決手段】 水素分離構造体10は、多孔質セラミックスからなる基材12と、基材12上に形成された第1層14と、第1層14上に形成されかつPdまたはPdを含む合金からなる第2層16と、を積層して構成されている。第1層14は、基材12と第2層26との間の熱膨脹係数の材料で形成されており、高温雰囲気下において、基材12と第2層26との熱膨張差を緩和して、その剥離を防止する。

Claim (excerpt)：

水素ガス及び他の元素のガスを含む混合ガスから、水素ガスを選択的に透過させる水素分離構造体において、多孔質セラミックスまたは多孔質ガラスからなる基材と、基材上に積層された第1層と、第1層上に積層され、PdまたはPd合金からなる第2層と、を備え、上記第1層は、基材の表面の孔の一部を埋めるように形成され、その材料がPdを含まない金属、その金属の粉末に無機材料を混合した材料、またはSiO2またはAl2O3またはZrO2を含む無機材料のいずれかであり、かつその熱膨張係数が上記基材と第2層との間の値の材料で形成され、上記第2層は、第1層の表面の孔を埋めるように形成されたこと、を特徴とする水素分離構造体。

IPC (3)：

B01D 71/02 500 ,  B01D 53/22 ,  C01B 3/50

FI (3)：

B01D 71/02 500 ,  B01D 53/22 ,  C01B 3/50

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (3)

• 特開平2-271901
  
• 特開平4-227035
  
• 水素分離体とそれを用いた水素分離装置及び水素分離体の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-140340   Applicant：日本碍子株式会社