Pat
J-GLOBAL ID：200903023842678639
ドライエツチング後の後処理方法
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
菅野 中
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991201298
Publication number (International publication number)：1993021405
Application date： Jul. 16, 1991
Publication date： Jan. 29, 1993
Summary：
【要約】【目的】 白金エッチング後、レジストマスクの側壁に付着した側壁膜を、白金に損傷を与えることなく、側壁膜のみを除去する。【構成】 白金エッチング後、レジストマスクの側壁に付着した側壁膜4は、プラズマ処理,溶液処理では除去できず、側壁に残る。この側壁膜4を高圧力噴水(ジェットスクラバー)5により除去をする。このジェットスクラバー法は、圧力100kg/cm2の水をウエハーに噴出しながら、綿状のローラーにてウエハーを洗浄するものである。この処理によって側壁膜4は容易に除去される。
Claim (excerpt)：
レジストマスクに付着した側壁膜を除去処理するドライエッチング後の後処理方法であって、前記側壁膜の除去処理は、高圧力噴水(スクライバー)を側壁膜に噴付けて洗浄するものであることを特徴とするドライエッチング後の後処理方法。
IPC (2)：
H01L 21/302
, H01L 21/304 341
