Pat
J-GLOBAL ID:200903023850250010
欠陥検査装置
Inventor:
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
武 顕次郎
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2003078759
Publication number (International publication number):2004286584
Application date: Mar. 20, 2003
Publication date: Oct. 14, 2004
Summary:
【課題】検査対象範囲に限定されず容易に信頼性が維持できるようにした欠陥検査装置を提供すること。【解決手段】顕微鏡8により検査対象となる基板1の画像を拡大してビデオカメラ15で撮像し、画像の比較により基板1の欠陥を検査する装置において、定光量透過光照明部30を用い、基準画像と検査対象画像の登録時における基板1の照度を等しくすることにより、画像比較時での最大輝度が定数で与えられるようにし、この状態でヒストグラムにより画像比較して欠陥を検出するようにしたもの。【選択図】 図1
Claim (excerpt):
検査対象の欠陥部分を、該検査対象の画像と基準画像の比較により検出し、前記検査対象の欠陥を検査する方式の欠陥検査装置において、
前記基準画像撮像時と前記検査対象画像撮像時の撮像照度を等しく保つ定光量照明手段と、
前記検査対象の画像と前記基準画像の比較対象領域内での画素輝度のバラツキ頻度に基づいて前記欠陥部分を検出するヒストグラム判定手段とを設け、
前記ヒストグラム判定手段による前記欠陥部分の検出が、前記定光量照明手段による照明のもとで実行されるように構成したことを特徴とする欠陥検査装置。
IPC (3):
G01N21/956
, G06T1/00
, H01L21/66
FI (6):
G01N21/956 A
, G06T1/00 305A
, G06T1/00 400D
, G06T1/00 430G
, G06T1/00 460L
, H01L21/66 J
F-Term (44):
2G051AA56
, 2G051AB02
, 2G051BC01
, 2G051CA04
, 2G051CA12
, 2G051CB01
, 2G051CB02
, 2G051DA07
, 2G051DA09
, 2G051EA27
, 2G051EB01
, 2G051EC02
, 2G051ED08
, 4M106AA09
, 4M106BA04
, 4M106CA39
, 4M106DB19
, 4M106DJ18
, 4M106DJ20
, 5B047AA12
, 5B047BA02
, 5B047BB06
, 5B047BC01
, 5B047BC08
, 5B047BC09
, 5B047BC15
, 5B047BC16
, 5B047CA19
, 5B047CB02
, 5B047CB04
, 5B047CB06
, 5B047DC02
, 5B047DC04
, 5B047DC06
, 5B057AA03
, 5B057BA02
, 5B057BA19
, 5B057DA03
, 5B057DA07
, 5B057DB02
, 5B057DB05
, 5B057DB09
, 5B057DC23
, 5B057DC33
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (7)
-
検査装置及び方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-347362
Applicant:株式会社ニコン
-
特公平4-031308
-
特開平1-219548
-
パターン検査装置および方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-250992
Applicant:大日本スクリーン製造株式会社
-
パタ-ン検査方法およびパタ-ン検査装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-001151
Applicant:大日本スクリーン製造株式会社
-
照明制御装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-207616
Applicant:富士通株式会社
-
試料処理装置および試料処理方法、フォトマスクの製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-021121
Applicant:株式会社東芝
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