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J-GLOBAL ID：200903023852456871

マイクロフィジオメーター

Inventor： カタリナ・フェルヘーヘン
Applicant, Patent owner： アンテルユニヴェルシテール・ミクロ-エレクトロニカ・サントリュム・ヴェー・ゼッド・ドゥブルヴェ
Agent (1)： 青山 葆 (外2名)
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2001582491
Publication number (International publication number)：2003532876
Application date： May. 08, 2001
Publication date： Nov. 05, 2003
Summary：

【要約】本発明は、多様な小さなサンプルに対する物理的な又は化学的な刺激の影響をモニターする、アレイ装置に関する。該アレイ装置は、分離域によって互いに隔てられている少なくとも2つのアレイエレメントを有する支持基板を備えている。上記アレイエレメントは、上記サンプルの1つと上記物理的な又は化学的な刺激との間の接触を提供するよう設けられ、10mmより小さい断面を有する、レシーブ域と、上記レシーブ域と基準との間の熱の測定を実行するよう設けられた熱検出手段と、を備えている。上記分離域は、上記支持基板の少なくとも一部によって形成されている。上記支持基板が、上記アレイ装置を支持するのに十分な強さを有しており、上記分離域が、上記アレイエレメントを熱的に分離するよう設けられていることを特徴としている。

Claim (excerpt)：

多様な小さなサンプルに対する物理的な又は化学的な刺激の影響をモニターする、アレイ装置であって、 該アレイ装置は、分離域によって互いに隔てられている少なくとも2つのアレイエレメントを有する支持基板を備えており、 上記アレイエレメントは、 上記サンプルの1つと上記物理的な又は化学的な刺激との間の接触を提供するよう設けられ、10mmより小さい断面を有する、レシーブ域と、 上記レシーブ域と基準との間の熱の測定を実行するよう設けられた熱検出手段と、を備えており、 上記分離域は、上記支持基板の少なくとも一部によって形成されており、 上記支持基板が、上記アレイ装置を支持するのに十分な強さを有しており、上記分離域が、上記アレイエレメントを熱的に分離するよう設けられていることを特徴とするアレイ装置。

IPC (5)：

G01N 25/20 ,  C12M 1/34 ,  G01N 33/15 ,  G01N 33/50 ,  G01N 37/00 103

FI (6)：

G01N 25/20 D ,  C12M 1/34 E ,  G01N 33/15 C ,  G01N 33/15 Z ,  G01N 33/50 Z ,  G01N 37/00 103

F-Term (23)：

2G040AA02 ,  2G040AB14 ,  2G040BA02 ,  2G040BA24 ,  2G040CA02 ,  2G040CA23 ,  2G040CB03 ,  2G040DA02 ,  2G040DA03 ,  2G040DA05 ,  2G040DA06 ,  2G040FA01 ,  2G040GA01 ,  2G040GB02 ,  2G040GC01 ,  2G040HA06 ,  2G045BB51 ,  2G045CB01 ,  2G045DA36 ,  2G045GC30 ,  4B029AA07 ,  4B029BB16 ,  4B029FA13