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J-GLOBAL ID:200903023883962864
残留応力の測定方法及び該方法に使用する測定装置
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
井内 龍二 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1991001073
Publication number (International publication number):1994026945
Application date: Jan. 09, 1991
Publication date: Feb. 04, 1994
Summary:
【要約】【目的】 被測定物の弾性定数やモードグリュナイゼン定数等の物理定数が未知であり、しかも膜厚が20nm以下程度である場合でも容易に残留応力を測定する。【構成】 被測定物への応力値と結晶構造の格子振動によるラマンシフト量の変化との関係から予め検量線を作成しておき、この後、被測定物の格子振動によるラマンシフト量の標準スペクトルとのシフト量変化を測定し、該測定値と前記検量線とを比較することにより被測定物の残留応力を求める。
Claim (excerpt):
基板上に被測定物を生成させ、該基板に応力を加えることにより加わる前記被測定物への応力値と、結晶構造の格子振動によるラマンシフト量の変化との関係から検量線を作成しておき、この後、被測定物の前記格子振動によるラマンシフト量の標準スペクトルとのシフト量変化を測定し、該測定値と前記検量線とを比較することにより、前記被測定物の残留応力を求めることを特徴とする残留応力の測定方法。
IPC (3):
G01L 1/00
, G01L 1/25
, G01N 21/65
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